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1. 簡介

光刻掩模版（Mask Reticle），是微納加工技術(shù)中光刻工藝中使用的圖形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的圖形組成。主要應(yīng)用在如集成電路，印刷電路板，平板顯示器，微納光學元件等。

我司的掩模板加工有兩種方式：一為激光直寫；另一為電子束直寫。

2. 技術(shù)參數(shù)